镀膜铝线、镀膜铝丝常常在真空镀膜中使用，是真空镀膜使用的主要原材料。那么什么是真空镀膜呢？

真空镀膜的定义

是指在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜的工艺。

真空镀膜的分类

真空镀膜有三种形式：即蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜。

• 蒸发镀膜。通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法最早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比，具有较高的沉积速率，可镀制单质和不易热分解的化合物膜的特性。
• 溅射镀膜。用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面，沉积在基片上。溅射现象于1870年开始用于镀膜技术，1930年以后由于提高了沉积速率而逐渐用于工业生产。
• 离子镀膜。蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面，称为离子镀。这种技术是D.麦托克斯于1963年提出的。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。离子镀工艺综合了蒸发（高沉积速率）与溅射（良好的膜层附着力）工艺的特点，并有很好的绕射性，可为形状复杂的工件镀膜。